50～100μm的氧化铝主要用于A、贵金属基底冠的粗化B、半贵金属基底冠的粗化C、非贵金属基底冠的粗化D、

50～100p；micro；m的氧化铝主要用于()。

A、贵金属基底冠的粗化

B、半贵金属基底冠的粗化

C、非贵金属基底冠的粗化

D、去除铸件表面的包埋料

E、去除铸件表面在铸造过程中形成的氧化膜

去净铸件表面包埋材料所用的氧化铝直径是

A．80～100μm

B．35～50μm

C．0.2～2μm

D．50～100μm

E．0.5～3μm

打磨后贵金属基底冠的表面喷砂粗化应选用的氧化铝直径是

A．80～100μm

B．35～50μm

C．0.2～2μm

D．50～100μm

E．0.5～3μm

技师制作贵金属烤瓷全冠，其金属基底冠打磨完成喷砂粗化时应选用

A．50～100μm氧化铝砂

B．35～50μm氧化铝砂

C．50～100μm石英砂

D．35～50μm石英砂

E．150～200μm氧化铝砂

贵金属烤瓷金属基底冠桥，用何种氧化铝砂作喷砂处理

A、15～25μm

B、25～35μm

C、35～50μm

D、50～100μm

E、100～120μm

金属基底冠桥粗化处理时，用何种氧化铝砂喷砂处理

A、15～25μm

B、25～35μm

C、35～50μm

D、50～100μm

E、100～120μm

B、用碳化硅砂针磨除非贵金属表面的氧化物

C、打磨时用细砂针多方均匀地打磨出金瓷结合．部要求的外形

D、禁止使用橡皮轮磨光

E、用50～100μm的氧化铝喷砂

PFM基底冠在预氧化处理中不正确的是A、非贵金属在烤瓷炉内真空状态下加热形成氧化膜

B、贵金属在炉内半真空状态下加热形成氧化膜

C、非贵金属在炉内非真空状态下加热形成氧化膜

D、非贵金属预氧化烧结的温度与0P层烧结的温度相同

E、理想的氧化膜厚度为0．2～2μm

冀东公司部分职员(全部为中国公民)2011年12月个人收入资料如下：

(1)12月工资表(部分)

(2)上述人员全年一次性奖励情况：李贵4万元，郭一兰2.5万元，张平1.5万元。

要求：分别计算李贵、郭一兰和张平12月应缴纳个人所得税税额。