题目内容
（请给出正确答案）
[主观题]
集成电路布图设计的设计思想基本相同，很少有根本性的改进，专利保护难以适应集成电路技术水平
发展的需要。()
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A.受保护的集成电路布图设计应当具有独创性
B.受保护的集成电路布图设计应当具有美感
C.对集成电路布图设计的保护不延及思想、处理过程、操作方法或者数学概念
D.国务院知识产权行政部门负责布图设计专有权的管理工作
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第5题
根据集成电路布图设计保护条例的规定，下列哪些说法是正确的？
A.布图设计专有权经国务院知识产权行政部门登记产生
B.未经登记的布图设计不受集成电路布图设计保护条例的保护
C.无论是否登记或者投入商业利用，布图设计自创作完成之日起10年后，不再受集成电路布图设计保护条例的保护
D.布图设计自其在世界任何地方首次商业利用之日起2年内未提出登记申请的，国务院知识产权行政部门不再予以登记
第9题
关于布图设计权产生的形式条件，通常包括（）。
A.该布图设计必须投入商业实施
B.受保护的布图设计必须固化到集成电路芯片中
C.布图设计应具有独创性
D.受保护的布图设计必须办理登记手续
第11题
依据我国《集成电路布图设计保护条例》和《集成电路知识产权条约》的规定，下列表述中正确的是（）
A.外国人在中国境内创作的布图设计，依照本条例享有布图设计专有权。
B.外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的，依照本条例享有布图设计专有权。
C.外国人在同中国签订有关布图设计保护协议或者与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的国家领土内首先投入商业利用的布图设计，依照本条例享有布图设计专有权。
D.外国人在同中国签订有关布图设计保护协议或者与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的国家境内创作的布图设计，依照本条例享有布图设计专有权。
