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[单选题]

制作PFM全冠时,金属基底表面氧化膜厚度最佳值为()

A.0.2~2μm

B.5~10μm

C.15~20μm

D.25~30μm

E.30μm以上

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第1题

制作PFM全冠时,金属基底表面氧化膜厚度最佳值为A.0.2~2μmB.5~10μmC.15~20μmD.25~30μmE.30μm以上

制作PFM全冠时,金属基底表面氧化膜厚度最佳值为

A.0.2~2μm

B.5~10μm

C.15~20μm

D.25~30μm

E.30μm以上

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第2题

制作PFM全冠时,金属基底表面氧化膜厚度最佳值为A.0.2~2μamB.5~10μmC.15~20μmD.25~30μmE.30μm以上

制作PFM全冠时,金属基底表面氧化膜厚度最佳值为

A.0.2~2μam

B.5~10μm

C.15~20μm

D.25~30μm

E.30μm以上

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第3题

制作PFM全冠时,金属基底表面氧化膜厚度最佳值为A.0.2~2μamB.5~10μmC.15~20μmD.25~30μmE.30μm以上

制作PFM全冠时,金属基底表面氧化膜厚度最佳值为

A.0.2~2μam

B.5~10μm

C.15~20μm

D.25~30μm

E.30μm以上

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第4题

制作PFM全冠时,金属基底表面氧化膜厚度最佳值为A.0.2~2μmB.5~10μmC.15~20μmD.25~30μmE.30μm以上

制作PFM全冠时,金属基底表面氧化膜厚度最佳值为

A.0.2~2μm

B.5~10μm

C.15~20μm

D.25~30μm

E.30μm以上

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第5题

制作PFM全冠时,金属基底表面氧化膜厚度最佳值为A.0.2~2μamB.5~10μmC.15~20μmD.25~30μmE.30μm以上

制作PFM全冠时,金属基底表面氧化膜厚度最佳值为

A.0.2~2μam

B.5~10μm

C.15~20μm

D.25~30μm

E.30μm以上

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第6题

制作烤瓷熔附金属全冠底冠时,金属基底表面氧化膜厚度最佳值为

A.0.2~2μm

B.5~10μm

C.15~20μm

D.25~30μm

E.30μm

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第7题

技师在制作PFM全冠时,为避免出现应力集中而破坏金-瓷结合,其金属基底表面形态应为A.金属基底不能

技师在制作PFM全冠时,为避免出现应力集中而破坏金-瓷结合,其金属基底表面形态应为

A.金属基底不能过厚

B.金属基底各轴面不能呈流线形

C.金属基底表面无锐边、锐角

D.金属基底表面不能为凹形

E.金属基底表面不能为凸形

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第8题

技师在制作PFM全冠时,为避免出现应力集中而破坏金-瓷结合,其金属基底表面形态应为A.金属基底不能

技师在制作PFM全冠时,为避免出现应力集中而破坏金-瓷结合,其金属基底表面形态应为

A.金属基底不能过厚

B.金属基底各轴面不能呈流线形

C.金属基底表面无锐边、锐角

D.金属基底表面不能为凹形

E.金属基底表面不能为凸形

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第9题

PFM冠制作时,为增强金瓷结合,可采用的方法,除了A.金属基底冠表面喷砂B.金属基底冠电解蚀刻C.金属

PFM冠制作时,为增强金瓷结合,可采用的方法,除了

A.金属基底冠表面喷砂

B.金属基底冠电解蚀刻

C.金属基底冠超声清洗

D.金属基底冠除气处理

E.金属基底冠表面预氧化

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