题目内容
（请给出正确答案）
[主观题]
热蒸发技术常用的蒸发源有()和()。
热蒸发技术常用的蒸发源有（)和（)。
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按蒸发源加热方法的不同，真空蒸发工艺可分为：()蒸发、()蒸发、离子束蒸发等。
A.电阻加热
B.电子束
C.蒸气原子
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第7题
欲在一批小尺寸的基板上用点蒸发源蒸发法沉积厚度一致的薄膜，基板相对于蒸发源应该怎样放置
A.与蒸发源平行的平面上
B.以蒸发源为球心的球面（圆周）上
C.与蒸发源垂直的平面上
D.以蒸发源为球心的球半径上
