我国现行的主要知识产权保护体系结构不包括()。

A.《商标法》

B.《专利法》

C.《集成电路布图设计保护条例》

D.《劳动合同法》

A.受保护的集成电路布图设计应当具有独创性

B.受保护的集成电路布图设计应当具有美感

C.对集成电路布图设计的保护不延及思想、处理过程、操作方法或者数学概念

D.国务院知识产权行政部门负责布图设计专有权的管理工作

A.布图设计专有权经国务院知识产权行政部门登记产生

B.未经登记的布图设计不受集成电路布图设计保护条例的保护

C.无论是否登记或者投入商业利用，布图设计自创作完成之日起10年后，不再受集成电路布图设计保护条例的保护

D.布图设计自其在世界任何地方首次商业利用之日起2年内未提出登记申请的，国务院知识产权行政部门不再予以登记

A.商标

B.商业秘密

C.版权

D.集成电路布图设计

我国专利法保护的客体有()

A实用新型

B集成电路布图设计

C发明

D外观设计

A、科学发现;

B、货源标志;

C、集成电路布图设计;

D、商业秘密

A.外国人在中国境内创作的布图设计，依照本条例享有布图设计专有权。

B.外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的，依照本条例享有布图设计专有权。

C.外国人在同中国签订有关布图设计保护协议或者与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的国家领土内首先投入商业利用的布图设计，依照本条例享有布图设计专有权。

D.外国人在同中国签订有关布图设计保护协议或者与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的国家境内创作的布图设计，依照本条例享有布图设计专有权。

世界各国对集成电路布图设计的保护期限相同。()

A、布图设计

B、构形

C、制造工艺

D、元器件

A.《保护工业产权巴黎公约》

B.《保护文学艺术作品伯尔尼公约》

C.《关于集成电路的知识产权条约》

D.《与贸易有关的知识产权协定》

E.《罗马公约》