题目内容
（请给出正确答案）
[单选题]
制绒后需使用（）对硅片进行高纯度清洗。
A.HF
B.HCI
C.HF及HCI混液
D.先用HF再用HCI
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A.HF
B.NH3
C.HCI
D.VOC5
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第3题
碱制绒的工艺要求
A.硅片减薄重量为0.25g～0.45g
B.制绒后硅片目视当为黑色，不同角度观察呈均匀绒面，无绒面不良现象。
C.制绒后硅片在显微镜下观察，金字塔分布呈均匀致密，相邻金字塔之间没有间隙。
第6题
急性化装性中耳炎的局部治疗方案。正确的是A鼓膜穿孔前可先用3%过载化氢溶夜彻底清洗外耳道蔬
急性化装性中耳炎的局部治疗方案。正确的是
A鼓膜穿孔前可先用3%过载化氢溶夜彻底清洗外耳道蔬液，再用无真毒性的抗生素滴耳液载膜穿孔后可使用2%的酚甘油滴耳继续治疗
B、鼓膜穿孔前可使用2%酚甘油滴耳，鼓膜穿孔后先以无耳毒性的抗生素商耳液抗感染，再用3%过氧化氢溶液清洗外耳道，以防止进一步感染
C、鼓膜穿孔前可使用3%过氧化氢溶液清洗外耳道，鼓膜穿孔后可用2%酶甘油滴耳，再用无耳毒性的抗生素滴耳液治疗
D、鼓膜穿孔前可使用2%酚甘油滴耳，鼓膜穿孔后可先用3%过氧化氢溶液清洗外耳道脓液，再用无耳毒性的抗生素滴耳液治疗公
E、鼓膜穿孔前用无耳毒性的抗生素滴耳液抗感染鼓酸穿孔后可先用3%过氧化氢溶液清洗外耳道浓液，再用2%酚甘油滴耳序贯治疗
第9题
解释下列实验现象(1)沸点：HF>HI>HCI，BiH3>NH3>PH3;(2)SiCl4比CCI4易水解。
解释下列实验现象（1)沸点：HF＞HI＞HCI，BiH3＞NH3＞PH3;（2)SiCl4比CCI4易水解。
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第10题
关于SCP调度筑略说法错误的是()。
关于SCP调度筑略说法错误的是（)。
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A.普通租户不支持配置调度策略
B.使用调度策略固定虚拟机在某台主机后，虚拟机将不能HA
C.业务双活场景下通常使用调度策略将多个业务虚拟机调度在不同主机上
D.aCMP纳管HCI后，HCI端就不允许配置调度策略，需要在aCMP中进行配置
第11题
关于SCP调度策略说法错误的是（）。
A．使用调度策略固定虚拟机在某台主机后,虚拟机将不能HA
B．普通租户不支持配置调度策略
C．业务双活场景下通常使用调度策略将多个业务虚拟机调度在不同主机上
D．aCMP纳管HCI后, HCI端就不允许配调度策略,需要在aCMP中进行配置
