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[主观题]

集成电路布图设计具有非任意性,表现形式少的特点,很适合利用著作权进行保护。()

集成电路布图设计具有非任意性,表现形式少的特点,很适合利用著作权进行保护。()

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第1题

根据集成电路布图设计保护条例的规定,下列哪些说法是正确的?

A.受保护的集成电路布图设计应当具有独创性

B.受保护的集成电路布图设计应当具有美感

C.对集成电路布图设计的保护不延及思想、处理过程、操作方法或者数学概念

D.国务院知识产权行政部门负责布图设计专有权的管理工作

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第2题

关于布图设计权产生的形式条件,通常包括()。

A.该布图设计必须投入商业实施

B.受保护的布图设计必须固化到集成电路芯片中

C.布图设计应具有独创性

D.受保护的布图设计必须办理登记手续

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第3题

对于集成电路布图设计,美国称之为()。

A.布图设计

B.掩模作品

C.拓扑图

D.电路布图

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第4题

()设计产品,指的是集成电路生产过程中的布图设计这一中间产品。

A.电子芯片

B.水晶导管

C.集成电路布图

D.以上都不是

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第5题

外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的,依照《集成电路布图设计保护条例》享有布
图设计专有权。()
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第6题

根据集成电路布图设计保护条例的规定,下列哪些说法是正确的?

A.布图设计专有权经国务院知识产权行政部门登记产生

B.未经登记的布图设计不受集成电路布图设计保护条例的保护

C.无论是否登记或者投入商业利用,布图设计自创作完成之日起10年后,不再受集成电路布图设计保护条例的保护

D.布图设计自其在世界任何地方首次商业利用之日起2年内未提出登记申请的,国务院知识产权行政部门不再予以登记

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第7题

集成电路布图设计权赋予设计人对自己创作完成的半导体集成电路布图设计享有()权和()权。

A.制作

B.复制

C.商业利用

D.使用

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第8题

集成电路布图设计专有权的保护期限是()。A10年B20年C15年

集成电路布图设计专有权的保护期限是()。

A10年

B20年

C15年

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第9题

布图设计已经投入商业利用的,在申请布图设计登记之时,申请人应该提交含有该布图设计的()。

A.文字资料

B.集成电路样品

C.设计原稿

D.布图设计图纸

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第10题

我国专利法保护的客体有()A实用新型B集成电路布图设计C发明D外观设计

我国专利法保护的客体有()

A实用新型

B集成电路布图设计

C发明

D外观设计

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第11题

根据集成电路布图设计保护条例及相关规定,下列哪种文件是申请布图设计登记应当提交的?()

A.权利要求书

B.说明书

C.说明书附图

D.布图设计的复印件或者图样

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