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[判断题]
PECVD工序的目的是为了在硅片表面形成一层致密的薄膜,该薄膜的成分主要是氮化硅()
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第3题
A.在矿物表面形成难溶性亲水化合物薄膜
B.在矿物表面形成易溶性亲水化合物薄膜
C.在矿物表面形成胶体吸附膜
D.在矿物表面形成离子吸附膜
第8题
A.用于建筑的玻璃表面涂镀一层金属
B.用于建筑的玻璃表面涂镀多层金属
C.用于建筑的玻璃表面涂镀一层或多层合金
D.用于建筑的玻璃表面涂镀一层或多层金属化合物薄膜
E.用于建筑的玻璃表面粘贴一层胶状薄膜
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