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[单选题]

半导体行业的金属防腐常常采用:

A.保护层法

B.缓蚀剂法

C.改变金属的内部结构

D.阴极保护法

E.牺牲阳极保护法

答案
干--湿--干氧化
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第1题

半导体行业的金属防腐常常采用:

A.电镀

B.缓蚀剂法

C.致密氧化层

D.牺牲阳极保护法

E.电流法

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第2题

以下哪种方法无法对金属起到保护防止腐蚀的作用

A.镀一层耐蚀保护层并保持保护层的完整

B.牺牲阳极的阴极保护法

C.外加电流的阴极保护法

D.降低金属接触环境酸度

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第3题

以下属于电化学修复工法的是?

A.电化学脱盐工法

B.电化学再碱化工法

C.电化学附着工法

D.牺牲阳极阴极保护法

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第4题

电化学保护法中的外加电流保护法是将被保护金属作为 (填写阳极或阴极)。
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第5题

不论是电化学阴极保护,还是牺牲阳极法保护金属,基本原则均为()

A.对被保护金属通阴极电流,使其电位下降

B.对被保护金属通阳极电流,使其电位升高

C.对被保护金属通阳极电流,使其电位下降

D.对被保护金属通阴极电流,使其电位升高

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第6题

下列属于金属防腐措施的是

A.形成合金

B.金属表面涂漆

C.加入缓蚀剂

D.外加电流,使金属作为阴极

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第7题

牺牲阳极保护法是阳极保护法。
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第8题

CCD的基本单元由以下几部分组成() A.金属 B.氧化物 C.半导体 D光电阴极 E 光电阳极
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第9题

金属电化学腐蚀时形成微电池,被腐蚀的金属为:()

A.阳极

B.负极

C.阴极

D.正极

E.正极或阳极

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