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[单选题]

以下哪种不是预制棒制备工艺?

A.等离子体增强化学气相沉积法(PCVD);

B.改进的化学气相沉积法(MCVD);

C.低压化学气相沉积法(LPCVD);

D.气相轴向沉积法(VAD)。

答案
D、气相轴向沉积法(VAD)。
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第1题

碳纳米管的制备方法常见的主要有三种:

A.电弧放电法、PVD和激光蒸发法

B.SPS、化学气相沉积法和激光蒸发法

C.PVD、化学气相沉积法和激光蒸发法

D.化学气相沉积法和激光蒸发法

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第2题

通过物理法和化学法可以得到所需的纳米薄膜材料,属于物理法制备纳米薄膜材料的是()

A.磁控溅射法

B.溶胶-凝胶法

C.金属有机物化学气相沉积

D.激光诱导化学气相沉积

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第3题

以下哪个不属于等离子体利用气-固相反应发生的应用?

A.等离子体刻蚀

B.溅射成膜

C.等离子体化学气相沉积

D.等离子体检测

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第4题

PECVD的含义是

A.光化学气相淀积

B.等离子体增强化学气相淀积

C.低压化学气相淀积

D.常压化学气相淀积

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第5题

题3-2-10 以下不是化学气相沉积工艺所成薄膜质量指标的是 。

A.台阶覆盖特性

B.薄膜致密性

C.薄膜厚度均匀性

D.薄膜宽度

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第6题

量子点常见的合成方法中不包括

A.水热合成法

B.化学气相沉积法

C.透析法

D.有机相合成法

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第7题

金属有机物化学气相沉积(简称MOCVD),是一种利用化学反应从气相进行薄膜晶体生长的方法。
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第8题

化学气相渗透法可用于制备陶瓷基复合材料。
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第9题

化学气相渗透法可用于制备陶瓷基复合材料。
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