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[单选题]

下面选项中对于拉单晶的工艺过程叙述正确的是()。 (1)熔硅 (2)下种 (3)收颈 (4)放肩 (5)转肩 (6)等径生长 (7)收尾

A.(1)(2)(3)(5)(4)(6)(7)

B.(1)(2)(4)(5)(3)(6)(7)

C.(1)(2)(3)(6)(4)(5)(7)

D.(1)(2)(3)(4)(5)(6)(7)

答案
单晶生长是在熔体硅/晶体硅界面进行的。;实际提拉单晶硅锭的速率考虑了质量和生产效率两方面因素。
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第1题

CZ法制备单晶硅时,常见的crystal pulling过程分为下种、缩颈和

A.放肩

B.等径生长

C.收尾拉光

D.转肩

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第2题

关于拉单晶的顺序,下列选项中正确的是

A.引晶、种晶、缩颈、等径生长、收尾

B.种晶、引晶、缩颈、等径生长、收尾

C.种晶、引晶、等径生长、缩颈、收尾

D.种晶、引晶、等径生长、收尾

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第3题

三角肌注射的正确位置是()

A.上臂外侧肩峰下 1~2横指处

B.上臂外侧肩峰下 3~4横指处

C.上臂外侧肩峰下 2~3横指处

D.上臂外侧肩峰下 4~5横指处

E.其余选项均不对

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第4题

对于热力学可逆过程,下列四种叙述中正确的是() (1) 变化速率无限小的过程、(1) 可做最大功的过程 (3) 循环过程、 (4) 能使系统和环境都完全复原的过程;

A.(1)(2)(3)

B.(1)(2)(4)

C.(4)

D.(1)(4)

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第5题

1、对于热力学可逆过程,下列四种叙述中正确的是() (1) 变化速率无限小的过程、(1) 可做最大功的过程 (3) 循环过程、 (4) 能使系统和环境都完全复原的过程;

A.(1)(2)(3)

B.(1)(2)(4)

C.(4)

D.(1)(4)

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第6题

正手击高球时,击球瞬间主要靠()发力。 (1)手指;(2)手腕;(3)手臂;(4)肩

A.(1)

B.(2)

C.(3)

D.(4)

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第7题

正手击高球时,击球瞬间主要靠()发力。 (1)手指;(2)手腕;(3)手臂;(4)肩

A.(1)

B.(2)

C.(3)

D.(4)

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第8题

正手击高球时,击球瞬间主要靠()发力。 (1)手指;(2)手腕;(3)手臂;(4)肩

A.(1)

B.(2)

C.(3)

D.(4)

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