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掺氯氧化可以减少氧化层错堆垛,吸附钠离子。

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第1题

10、目前常用的除铁工艺有()。

A.曝气氧化法

B.高锰酸钾氧化法

C.氯氧化法

D.接触氧化法

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第2题

有效氯是指含氯漂剂的氧化能力。
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第3题

促进吗啡的氧化反应的物质有

A.空气中的氧气

B.日光和紫外线照射

C.钠离子

D.重金属离子

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第4题

3、需氯量是指用于()等物质所消耗的部分。

A.氧化有机物

B.杀灭微生物

C.氧化还原性物质

D.杀死细菌

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第5题

下列不属于氧化还原法的是

A.氯氧化法去除废水中的氰化物

B.药剂还原法处理含铬废水

C.臭氧氧化深度处理炼油厂废水

D.明矾混凝法处理浑浊水体

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第6题

2. 堆垛层错是一种()缺陷,根据层错的形成方式不同,面心立方晶体中有Shockley和Frank两种不全位错。
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第7题

7、给水深度处理工艺主要有()等。

A.活性炭吸附

B.臭氧氧化

C.生物活性炭

D.膜分离技术

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第8题

理想MOS结构是()。

A.金半功函数差为零

B.栅氧化层内有效电荷密度不为零

C.栅氧化层与半导体界面处存在界面态

D.无法确定

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第9题

堆垛层错不改变层错处原子最近邻的关系,只改变次近邻关系,引起的畸变能很小。
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第10题

下列措施可以有效减少二次氧化夹杂物的是______。

A.正确选择合金成分,严格控制易氧化元素的含量。

B.采取合理的浇注系统及浇注工艺,保持液态金属充型过程平稳流动。

C.严格控制铸型水分,防止铸型内产生氧化性气氛。

D.B、C

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