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[主观题]

离子注入过程中，离子穿入硅片的总距离，称为

答案

离子射程

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第1题

在钛合金航空发动机叶片上镀贵金属涂层，选用哪类离子束加工方法？

A.离子刻蚀

B.电镀

C.离子镀

D.离子注入

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第2题

将曝光后的硅片放入某种化学溶液后，部分光刻胶去除，该工序称为

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第3题

硅片制备过程中常常采用的定向方法是。

A.光点定向

B.金刚砂

C.CMP

D.研磨

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第4题

由于衬底晶向排列比较规则，注入的离子没有与硅原子碰撞，穿入到硅衬底很深的位置的现象称

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第5题

清洗硅片的原则是去除硅片表面的杂质和沾污和

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第6题

硅片制造完成后，封装之前检验硅片上每个芯片是否合格的测试是

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第7题

刚体运动过程中，其上任一点到某一固定平面的距离始终保持不变，这种运动称为刚体的平面运动。（）

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第8题

常见的辐射源有紫外线、（）、α射线、β射线、γ射线、中子、激光和离子注入。

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第9题

离子注入的结深主要有注入的能量决定，杂质浓度分布是由剂量决定。

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第10题

离子注入后，晶格结构会产生损伤，因此需要进行__________工艺。

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