无特殊要求，洁净室（区）的温度、相对湿度分别应控制在（）

A.温度18~24℃ ，相对湿度45~65℃

B.温度18~26℃ ，相对湿度45~65℃

C.温度18~24℃ ，相对湿度45~75℃

D.温度18~26℃ ，相对湿度45~75℃

A.45%～75%

B.35%～75%

C.30%～70%

D.40%～80%

A.温度20 ˚C±5˚C、相对湿度45%~ 75%

B.温度20 ˚C±2 ˚C、相对湿度60% ~ 80%

C.温度20 ˚C±2 ˚C、相对湿度(60±5) %

D.相对湿度为90%以上

A.晶片高度的1/2以下

B.晶片高度的1/4以下

C.晶片高度的1/3以下，1/4以上

D.无特殊要求

A.晶片高度的1/2以下

B.晶片高度的1/4以下

C.晶片高度的1/3以下，1/4以上

D.无特殊要求

A.70~80%

B.60~65%

C.40~50%

D.30~35%

A.16~18℃、35%~45%

B.18~20℃、45%~50%

C.20~22℃、50%~55%

D.22~24℃、55%~65%

E.65%~70%

A.35%

B.45%

C.55%

D.65%