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[主观题]

除了一些化合物半导体外,现代集成电路使用的半导体材料主要是_________

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第1题

下列关于微电子技术的叙述,错误的是?

A.Moore定律指出单块集成电路的集成度平均每年翻一番

B.现代集成电路使用的半导体材料主要是硅,也可以是化合物半导体如砷化镓等

C.现在PC机中使用的微处理器芯片都是超大规模和极大规模集成电路

D.微电子技术以集成电路为核心

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第2题

根据所采用的半导体器件不同,集成电路可以分为双极型集成电路和MOS集成电路两大类。
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第3题

若半导体中同时存在施主和受主掺杂,且施主掺杂浓度近似等于受主掺杂浓度,则该半导体称为()半导体?
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第4题

补偿半导体的形成描述不正确的是()

A.指同一区域内同时含有施主和受主杂质原子的半导体

B.n型半导体中材料中注入受主杂质原子

C.p型半导体中材料中注入受主杂质原子

D.补偿型半导体性质完全取决于杂质浓度Na与Nd的数目

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第5题

PN结是半导体集成电路最基础的单元,集成电路从产生到成熟大致经历了如下过程:

A.电子管——晶体管——集成电路——超大规模集成电路

B.晶体管——电子管——集成电路——超大规模集成电路

C.集成电路——晶体管——电子管——超大规模集成电路

D.集成电路——电子管——晶体管——超大规模集成电路

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第6题

一般把禁带宽度大于或等于()的半导体材料归类为宽禁带半导体材料。

A.1eV

B.0.5eV

C.2.3eV

D.5eV

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第7题

霍尔元件通常采用半导体材料制成
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第8题

外电场作用下,半导体材料内部空穴的顺电场漂移运动实际上是临近共价键中的()逆电场漂移运动。
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第9题

非本征半导体中,当电子浓度高于空穴浓度时,半导体是 型,掺入的是 杂质。

A.n, 受主

B.n, 施主

C.p, 受主

D.p, 施主

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第10题

在 中掺入适量的杂质元素称为杂质半导体。

A.P型半导体

B.N型半导体

C.I型半导体

D.半导体

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