更多“热氧化的速率与晶圆的晶向有关,但与氧化剂压力无关。”相关的问题
第1题
热氧化的速率与晶圆的晶向有关,但与氧化剂压力无关。
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第3题
晶界移动的速率是与晶界的曲率半径以及烧结温度密切相关,故烧结温度越高、晶粒的曲率半径越大,晶界向其曲率中心移动的速率越快。
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第4题
若核化速率和晶化速率曲线重叠面积大,则表明析晶区宽,故过冷度小时,控制在晶化速率大处析晶则可以获得数量少但尺寸大的晶体。
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第5题
若核化速率和晶化速率曲线重叠面积大,则表明析晶区宽,故过冷度大时,控制在晶化速率大处析晶则可以获得数量多但尺寸小的晶体。
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第6题
若核化速率和晶化速率曲线重叠面积大,则表明析晶区宽,故过冷度大时,控制在晶化速率大处析晶则可以获得数量少但尺寸大的晶体。
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第7题
若核化速率和晶化速率曲线重叠面积大,则表明析晶区宽,故过冷度小时,控制在核化速率大处析晶则可以获得数量少但尺寸大的晶体。
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第8题
晶圆尺寸通常用英寸表示,十二英寸晶圆是指
A.晶圆半径300mm
B.晶圆直径300mm
C.晶圆半径240mm
D.晶圆直径240mm
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第9题
从半导体制造来讲,晶圆中用的最广的晶体的晶向是111、100和()。
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第10题
晶带是与过某个晶向或与其平行的所有晶面,这个晶向称为晶带轴。若晶带轴指数为[uvw],则[uvw]与晶带中的一个晶面(hkl)这两个指数之间的[uvw].(hkl)等于()。
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