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热氧化的速率与晶圆的晶向有关,但与氧化剂压力无关。

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第1题

热氧化的速率与晶圆的晶向有关,但与氧化剂压力无关。
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第2题

影响热氧化速率中,晶向是最重要的。
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第3题

晶界移动的速率是与晶界的曲率半径以及烧结温度密切相关,故烧结温度越高、晶粒的曲率半径越大,晶界向其曲率中心移动的速率越快。
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第4题

若核化速率和晶化速率曲线重叠面积大,则表明析晶区宽,故过冷度小时,控制在晶化速率大处析晶则可以获得数量少但尺寸大的晶体。
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第5题

若核化速率和晶化速率曲线重叠面积大,则表明析晶区宽,故过冷度大时,控制在晶化速率大处析晶则可以获得数量多但尺寸小的晶体。
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第6题

若核化速率和晶化速率曲线重叠面积大,则表明析晶区宽,故过冷度大时,控制在晶化速率大处析晶则可以获得数量少但尺寸大的晶体。
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第7题

若核化速率和晶化速率曲线重叠面积大,则表明析晶区宽,故过冷度小时,控制在核化速率大处析晶则可以获得数量少但尺寸大的晶体。
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第8题

晶圆尺寸通常用英寸表示,十二英寸晶圆是指

A.晶圆半径300mm

B.晶圆直径300mm

C.晶圆半径240mm

D.晶圆直径240mm

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第9题

从半导体制造来讲,晶圆中用的最广的晶体的晶向是111、100和()。
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第10题

晶带是与过某个晶向或与其平行的所有晶面,这个晶向称为晶带轴。若晶带轴指数为[uvw],则[uvw]与晶带中的一个晶面(hkl)这两个指数之间的[uvw].(hkl)等于()。

A.0

B.1/2

C.1

D.-1

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