题目内容
（请给出正确答案）
[单选题]
对 于化学反应来说,受温度影响较小的是（）
A.标准平衡常数
B.反应速率常数
C.标准摩尔反应焓变
D.标准摩尔反应吉布斯函数变
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A.温度的较小变化都会对淀积速率有较大影响；
B.淀积速率受气相质量输运控制；
C.淀积速率受表面化学反应控制；
D.反应剂气体浓度的变化对淀积速率的影响不大。
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第2题
LPCVD-SiO2，将工艺控制在较高温度，有：ks＞＞hg，此时淀积速率的特点为：
A.温度的较小变化都会对淀积速率有较大影响；
B.淀积速率受气相质量输运控制；
C.淀积速率受表面化学反应控制；
D.反应剂气体浓度的变化对淀积速率的影响不大。
第3题
LPCVD-SiO2，将工艺控制在较高温度，有：ks＞＞hg，此时淀积速率的特点为：
A.温度的较小变化都会对淀积速率有较大影响；
B.淀积速率受气相质量输运控制；
C.淀积速率受表面化学反应控制；
D.反应剂气体浓度的变化对淀积速率的影响不大。
第4题
LPCVD-SiO2，将工艺控制在较高温度，有：ks＞＞hg，此时淀积速率的特点为：
A.温度的较小变化都会对淀积速率有较大影响；
B.淀积速率受气相质量输运控制；
C.淀积速率受表面化学反应控制；
D.反应剂气体浓度的变化对淀积速率的影响不大。
第5题
LPCVD-SiO2，将工艺控制在较高温度，有：ks＞＞hg，此时淀积速率的特点为：
A.温度的较小变化都会对淀积速率有较大影响；
B.淀积速率受气相质量输运控制；
C.淀积速率受表面化学反应控制；
D.反应剂气体浓度的变化对淀积速率的影响不大。
