离子束刻蚀是利用具有一定能量的（)轰击材料表面，使材料原子发生溅射，从而达到刻蚀目的。

A.溅射镀膜

B.离子镀

C.离子注入

D.离子束刻蚀

A.产生一个离子并导向靶

B.被轰击的原子向硅晶片运动

C.离子把靶上的原子轰出来

D.经过加速电场加速

E.原子在硅晶片表面凝结

A.刻蚀

B.氧化

C.淀积

D.光刻

A.电子

B.原子

C.分子

D.离子

A.分子

B.原子

C.电子

D.离子

A.自由基

B.电子

C.分子

D.原子

E.核电子

A.分子

B.离子

C.原子

D.电子

A.离子束刻蚀IBE

B.等离子体刻蚀PE

C.反应离子刻蚀RIE

D.高密度等离子体刻蚀HDP