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[单选题]

对于理想的MIS结构,在外加偏压作用下,半导体表面多子浓度比体内多子浓度高时,处于哪种状态?()

A.多子积累

B.少子积累

C.多子耗尽

D.少子反型

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第1题

对于理想的MIS结构,在外加偏压作用下,半导体表面少子浓度比体内的多子浓度还要高时,处于哪种状态?()

A.少子反型

B.多子积累

C.多子耗尽

D.本征状态

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第2题

对于理想的MIS结构,在外加偏压作用下,半导体表面从多子耗尽状态到少子反型状态的过渡状态是?()

A.本征状态

B.平坦能带状态

C.多子积累状态

D.深耗尽状态

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第3题

对于理想的MIS结构,在外加偏压作用下,半导体表面从多子积累状态到多子耗尽状态的过渡状态是?()

A.平坦能带状态

B.少子反型状态

C.深耗尽状态

D.本征状态

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第4题

在掺杂半导体中,多子的浓度越高,少子的浓度()。

A.越高

B.越低

C.不变

D.无法判断

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第5题

在杂质导电情况下,少子浓度与杂质浓度(多子浓度)成()。

A.正比

B.反比

C.相等

D.以上都不对

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第6题

N型半导体的多子就是自由电子,少子就是空穴。()
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第7题

场效应管和三极管一样,都有两种载流子(多子和少子)参与导电。()
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第8题

我国将实施积极应对()国家战略,制定人口长期发展战略。

A.人口年轻化

B.人口老龄化

C.多子化

D.少子化

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第9题

以下哪种技术不能为超100G提供海量带宽资源?()

A.高阶调制

B.多子载波复用

C.Nyquist频谱整形

D.1588V2

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第10题

下面哪种方式无法减少pn结的扩散电容:()。

A.减小少子寿命

B.减小结面积

C.减小掺杂浓度

D.减小正向直流偏压

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