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第1题
对于理想的MIS结构,在外加偏压作用下,半导体表面从多子积累状态到多子耗尽状态的过渡状态是?()
A.平坦能带状态
B.少子反型状态
C.深耗尽状态
D.本征状态
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第2题
对于理想的MIS结构,在外加偏压作用下,半导体表面少子浓度比体内的多子浓度还要高时,处于哪种状态?()
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第3题
对于理想的MIS结构,在外加偏压作用下,半导体表面多子浓度比体内多子浓度高时,处于哪种状态?()
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第4题
在外加栅压为零时,p沟增强型MOS管半导体表面处于()状态,()导电沟道。
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第5题
p沟耗尽型MOS管的阈值电压为(),达到阈值电压后,表面为()状态。
A.正值,强反型
B.正值,导电沟道消失
C.负值,强反型
D.负值,导电沟道消失
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第6题
在外界的作用下,直流电动机电枢外加电压和感应电动势的极性相同的这种工作状态称为()。
A.反接制动状态
B.反馈制动状态
C.能耗制动状态
D.加速状态
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第7题
N型半导体界面附近的固定正电荷会使界面一层成为()状态。
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第8题
电动机的制动:实质上就是指电动机从某一稳定运行状态减速到另外一种稳定运行状态的过渡过程。()
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第9题
n沟增强型MOS管在栅压为零时,由于氧化层中正电荷的作用,半导体表面为()状态,开启电压为()。
A.积累,正值
B.耗尽,正值
C.积累,负值
D.耗尽,负值
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第10题
三极管处于放大状态时,其集电结处于()。
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