解决杂质问题的根本方法是减少杂质的生成，根据杂质化学结构，分析杂质形成的原因，减少杂质生成正是工艺优化的根本任务。

A.指同一区域内同时含有施主和受主杂质原子的半导体

B.n型半导体中材料中注入受主杂质原子

C.p型半导体中材料中注入受主杂质原子

D.补偿型半导体性质完全取决于杂质浓度Na与Nd的数目

A.高含量组分

B.微量组分

C.化合物中的官能团

D.产品中的杂质

A.除去不溶性杂质

B.洗掉吸附在晶体表面的杂质

C.除去固体样品中高沸点、难挥发的溶剂

D.晶体的晶型在打浆过程中可能发生变化