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[主观题]

假设NMOS晶体管栅源电压大于阈值电压。当漏源电压VDS等于饱和电压VDSsat时,导电沟道靠近漏极处开始出现夹断。如果VDS继续增大,夹断点移向源极侧,沟道有效长度变短。

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第1题

工作于饱和区的MOS晶体管,漏源电流IDS几乎不随漏源电压VDS变化。
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第2题

测得某MOSFET的漏源电压,栅源电压值以及阈值电压:VDS=-3V,VGS=-2V,VTP=-1V,试判断该管子工作在 区。

A.饱和

B.截止

C.可变电阻

D.无法判断

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第3题

当栅源电压为0V时,_______MOS管存在导电沟道,在正的栅源电压作用下,可以有更大的漏极电流。

A.N沟道耗尽型

B.N沟道增强型

C.P沟道耗尽型

D.P沟道增强型

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第4题

要使耗尽型NMOS的导电沟道消失,需要外加负的栅源电压。
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第5题

如果MOS晶体管的输出电导gds等于零,说明漏源电流IDS与漏源电压VDS无关。
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第6题

N沟道耗尽型场效应管中,漏源电压VDS越大,漏源电流IDS: 。

A.越大

B.越小

C.不变

D.无法确定

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第7题

由N沟道增强型场效应管构成的放大电路中,漏源电压VDS应: 。

A.大于0

B.小于0

C.大于或小于0均可

D.无法确定

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第8题

增强型场效应管产生导电沟道所需的栅源电压称为开启电压。
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第9题

跨导主要反应了栅源电压对漏源电压的控制能力。
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第10题

测量某MOSFET的漏源电压、栅源电压值,VDS=1V,VGS=2V,VTN=1V;其中VTN为增强型MOS管的开启电压;试判断该管工作在什么区域。

A.预夹断临界点

B.饱和区(恒流区、放大工作区)

C.可变电阻区

D.截止区

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