物理气相沉积是利用气体物质在固体表面沉积成膜的技术，包括蒸镀，溅射，离子镀。

A.蒸发镀膜

B.真空喷涂

C.溅射沉积

D.离子镀

A.蒸镀 大于 溅射 大于 离子镀

B.蒸镀 大于 溅射 小于 离子镀

C.蒸镀 小于 溅射 大于 离子镀

D.蒸镀 小于 溅射 小于 离子镀

A.多弧离子镀

B.离子束辅助沉积

C.分子束外延

D.化学气相沉积

A.设备简单，操作容易

B.所制备的薄膜纯度较高，厚度控制较精确，成膜速率快

C.生长机理简单

D.工艺重复性不够理想

A.设备简单，操作容易

B.所制备的薄膜纯度较高，厚度控制较精确，成膜速率快

C.生长机理简单

D.工艺重复性不够理想

A.设备简单，操作容易

B.所制备的薄膜纯度较高，厚度控制较精确，成膜速率快

C.生长机理简单

D.工艺重复性不够理想