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[主观题]

物理气相沉积过程中，不会发生化学反应。

答案

A

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第1题

物理气相沉积过程中，不会发生化学反应。

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第2题

化学气相沉积法和物理气相沉积法最主要的区别在于前者需要在真空环境下进行。

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第3题

以下哪一种不属于物理气相沉积方法？

A.蒸发镀膜

B.真空喷涂

C.溅射沉积

D.离子镀

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第4题

物理气相沉积主要包括怎么哪几种方式，分别怎么定义的。

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第5题

物理气相沉积是利用气体物质在固体表面沉积成膜的技术，包括蒸镀，溅射，离子镀。

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第6题

物理气相沉积是利用气体物质在固体表面沉积成膜的技术，包括蒸镀，溅射，离子镀。

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第7题

题3-2-11 以下是物理气相沉积工艺的是。

A.真空蒸发

B.LPCVD

C.PECVD

D.MOCVD

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第8题

题3-2-11 以下是物理气相沉积工艺的是。

A.真空蒸发

B.LPCVD

C.PECVD

D.MOCVD

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