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[主观题]

化学气相沉积法和物理气相沉积法最主要的区别在于前者需要在真空环境下进行。

答案
河漫亚相?牛轭湖亚相?河床亚相?堤岸亚相
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第1题

以下哪种不是预制棒制备工艺?

A.等离子体增强化学气相沉积法(PCVD);

B.改进的化学气相沉积法(MCVD);

C.低压化学气相沉积法(LPCVD);

D.气相轴向沉积法(VAD)。

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第2题

碳纳米管的制备方法常见的主要有三种:

A.电弧放电法、PVD和激光蒸发法

B.SPS、化学气相沉积法和激光蒸发法

C.PVD、化学气相沉积法和激光蒸发法

D.化学气相沉积法和激光蒸发法

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第3题

通过物理法和化学法可以得到所需的纳米薄膜材料,属于物理法制备纳米薄膜材料的是()

A.磁控溅射法

B.溶胶-凝胶法

C.金属有机物化学气相沉积

D.激光诱导化学气相沉积

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第4题

以下哪一种不属于物理气相沉积方法?

A.蒸发镀膜

B.真空喷涂

C.溅射沉积

D.离子镀

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第5题

什么叫化学气相沉积?常用的化学气相沉积方法有哪些?
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第6题

简述化学气相沉积法的优缺点以及影响参数。 简述BaTiO3PTC陶瓷的生产工艺。
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第7题

物理气相沉积主要包括怎么哪几种方式,分别怎么定义的。
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第8题

金属有机物化学气相沉积(简称MOCVD),是一种利用化学反应从气相进行薄膜晶体生长的方法。
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