题目内容
(请给出正确答案)
[单选题]
题3-2-11 以下是物理气相沉积工艺的是 。
A.真空蒸发
B.LPCVD
C.PECVD
D.MOCVD
答案
真空蒸发
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A.真空蒸发
B.LPCVD
C.PECVD
D.MOCVD
第8题
A.等离子体增强化学气相沉积法(PCVD);
B.改进的化学气相沉积法(MCVD);
C.低压化学气相沉积法(LPCVD);
D.气相轴向沉积法(VAD)。
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