题目内容 (请给出正确答案)
[主观题]

什么叫化学气相沉积?常用的化学气相沉积方法有哪些?

答案
乃是通过化学反应的方式,利用加热、等离子激励火光辐射等各种能源,在反应器内使七台或蒸汽状态的化学物质在气相或气固界面上经化学反应形成固态沉积物的技术。 这种技术可以提高材料抵御环境作用的能力,如提高材料表面的硬度、耐磨性和耐腐蚀性;他还可以赋予材料某些功能特性,包括光、电、磁、热、声等各种物理和化学性能。
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第1题

以下哪种不是预制棒制备工艺?

A.等离子体增强化学气相沉积法(PCVD);

B.改进的化学气相沉积法(MCVD);

C.低压化学气相沉积法(LPCVD);

D.气相轴向沉积法(VAD)。

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第2题

碳纳米管的制备方法常见的主要有三种:

A.电弧放电法、PVD和激光蒸发法

B.SPS、化学气相沉积法和激光蒸发法

C.PVD、化学气相沉积法和激光蒸发法

D.化学气相沉积法和激光蒸发法

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第3题

金属有机物化学气相沉积(简称MOCVD),是一种利用化学反应从气相进行薄膜晶体生长的方法。
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第4题

通过物理法和化学法可以得到所需的纳米薄膜材料,属于物理法制备纳米薄膜材料的是()

A.磁控溅射法

B.溶胶-凝胶法

C.金属有机物化学气相沉积

D.激光诱导化学气相沉积

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第5题

量子点常见的合成方法中不包括

A.水热合成法

B.化学气相沉积法

C.透析法

D.有机相合成法

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第6题

以下哪个不属于等离子体利用气-固相反应发生的应用?

A.等离子体刻蚀

B.溅射成膜

C.等离子体化学气相沉积

D.等离子体检测

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第7题

题3-2-10 以下不是化学气相沉积工艺所成薄膜质量指标的是 。

A.台阶覆盖特性

B.薄膜致密性

C.薄膜厚度均匀性

D.薄膜宽度

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第8题

PECVD的含义是

A.光化学气相淀积

B.等离子体增强化学气相淀积

C.低压化学气相淀积

D.常压化学气相淀积

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第9题

在清洁的超高真空环境下,是具有一定热能的一种或多种分子束流喷射到晶体衬底,在衬底表面发生反应的成膜的技术是()

A.多弧离子镀

B.离子束辅助沉积

C.分子束外延

D.化学气相沉积

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