题目内容
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[主观题]
金属有机物化学气相沉积(简称MOCVD),是一种利用化学反应从气相进行薄膜晶体生长的方法。
答案
正确
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第4题
A.等离子体增强化学气相沉积法(PCVD);
B.改进的化学气相沉积法(MCVD);
C.低压化学气相沉积法(LPCVD);
D.气相轴向沉积法(VAD)。
第7题
A.电弧放电法、PVD和激光蒸发法
B.SPS、化学气相沉积法和激光蒸发法
C.PVD、化学气相沉积法和激光蒸发法
D.化学气相沉积法和激光蒸发法
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