以下哪种不是预制棒制备工艺？

A.等离子体增强化学气相沉积法（PCVD）；

B.改进的化学气相沉积法（MCVD）；

C.低压化学气相沉积法（LPCVD）；

D.气相轴向沉积法(VAD)。

A.电弧放电法、PVD和激光蒸发法

B.SPS、化学气相沉积法和激光蒸发法

C.PVD、化学气相沉积法和激光蒸发法

D.化学气相沉积法和激光蒸发法

A.磁控溅射法

B.溶胶-凝胶法

C.金属有机物化学气相沉积

D.激光诱导化学气相沉积

A.等离子体刻蚀

B.溅射成膜

C.等离子体化学气相沉积

D.等离子体检测

A.光化学气相淀积

B.等离子体增强化学气相淀积

C.低压化学气相淀积

D.常压化学气相淀积

A.台阶覆盖特性

B.薄膜致密性

C.薄膜厚度均匀性

D.薄膜宽度